圖文詳情
優(yōu)勢(shì):
低成本
低能耗
占地面積小
節(jié)約器件開(kāi)發(fā)時(shí)間
配置方式靈活
可選配清單:
多靶槍磁控濺射
多源電子束/熱蒸發(fā)
PECVD
RIE , ICP-RIE、ALE
PEALD
RTP
Plasma Treatment
氧化、退火
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